平木 昭夫/共著 -- オーム社 -- 1994.9 -- 428.8 /428.8


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所蔵

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
県立(本館) 大和講堂 /428.8/H64/ 112087200 一般図書 利用可 在架 iLisvirtual

資料詳細

タイトル 表面・界面の分析と評価
叢書名 応用物理学シリーズ
著者 平木 昭夫 /共著, 成沢 忠 /共著  
出版者 オーム社
出版年 1994.9
ページ数 141p
大きさ 22cm
一般件名 半導体
NDC分類 428.8 / 428.8
内容紹介 半導体技術の核となる半導体-金属界面での反応の分析・評価を軸に、著者の経験をふまえつつ新たな研究開発に向けた様々な示唆に富む内容となっている。
ISBN13桁 4-274-12976-4

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