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半導体プロセス技術 貸出可

丹呉 浩侑／編 -- 培風館 -- 1998.11 -- 549.8 ／549.8

https://www2.tosyo-saga.jp/kentosyo2/opac/switch-detail.do?bibid=1100358687

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所蔵

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所蔵館	所蔵場所	請求記号	資料コード	資料区分	帯出区分	状態
県立（本館）	大和講堂	/549.8/H29/	112886411	一般図書	利用可	在架

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資料詳細

タイトル	半導体プロセス技術
叢書名	半導体工学シリーズ
著者	丹呉 浩侑 ／編
出版者	培風館
出版年	1998.11
ページ数	325p
大きさ	22cm
一般件名	半導体
NDC分類	549.8 ／ 549.8
内容紹介	現在のLSIの基幹を成すSi MOS LSIプロセスを中心に記述。MOSトランジスタの基本知識等を概観した後、リソグラフィ、不純物導入技術などからプロセス評価技術まで、個々の要素プロセスの内容を体系的に詳述。
ISBN13桁	4-563-03298-0

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