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高分子のエネルギービーム加工 貸出可

田附 重夫／監修 -- シーエムシー出版 -- 2002.7 -- 578 ／578


https://www2.tosyo-saga.jp/kentosyo2/opac/switch-detail.do?bibid=1100505890

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
県立（本館） 大和講堂 /578/KO95/ 113525711 一般図書 利用可 在架 iLisvirtual

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資料詳細

タイトル 高分子のエネルギービーム加工
叢書名 CMCテクニカルライブラリー
著者 田附 重夫 ／監修, 長田 義仁 ／監修, 嘉悦 勲 ／監修  
出版者 シーエムシー出版
出版年 2002.7
ページ数 305p
大きさ 21cm
一般件名 高分子化学 , 光学 , プラズマ物理学 , 放射線
NDC分類 578 ／ 578
内容紹介 光・プラズマ・放射線という3つの手段をエネルギービームを用いた反応加工という統一的な視点から、実際技術とその問題点、今後の展望と可能性などを総括的に考察。86年刊「高分子のビーム加工」を改題した普及版。
ISBN13桁 4-88231-764-8

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