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プラズマ半導体プロセス工学 貸出可

市川 幸美／共著 -- 内田老鶴圃 -- 2003.7 -- 549.8 ／549.8

https://www2.tosyo-saga.jp/kentosyo2/opac/switch-detail.do?bibid=1100592063

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所蔵

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所蔵館	所蔵場所	請求記号	資料コード	資料区分	帯出区分	状態
県立（本館）	新庫２層	/549.8/I14/	113741284	一般図書	利用可	在架

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資料詳細

タイトル	プラズマ半導体プロセス工学
副書名	成膜とエッチング入門
著者	市川 幸美 ／共著, 佐々木 敏明 ／共著, 堤井 信力 ／共著
出版者	内田老鶴圃
出版年	2003.7
ページ数	289p
大きさ	22cm
一般件名	半導体 , プラズマ物理学
NDC分類	549.8 ／ 549.8
内容紹介	プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマCVDとエッチング技術の基礎を整理、解説する。
ISBN13桁	4-7536-5048-0

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