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フォトマスク 　

田邉 功／共著 -- 東京電機大学出版局 -- 2011.4 -- 549.7 ／549.7

https://www2.tosyo-saga.jp/kentosyo2/opac/switch-detail.do?bibid=1101415177

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所蔵

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所蔵館	所蔵場所	請求記号	資料コード	資料区分	帯出区分	状態
県立（本館）	新庫２層	/549.7/TA83/	114934755	交付金	利用可	在架

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資料詳細

タイトル	フォトマスク
副書名	電子部品製造の基幹技術
著者	田邉 功 ／共著, 竹花 洋一 ／共著, 法元 盛久 ／共著
出版者	東京電機大学出版局
出版年	2011.4
ページ数	323p
大きさ	21cm
一般件名	リソグラフィー
NDC分類	549.7 ／ 549.7
内容紹介	マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した本。半導体デバイスをはじめ、電子部品分野であるFPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについて記述。先端のフォトマスク技術も紹介する。
ISBN	978-4-501-32820-7

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