• 1 件中、 1 件目

有機合成のためのフリーラジカル反応 　

東郷 秀雄／著 -- 丸善出版 -- 2015.1 -- 437.01 ／437.01

https://www2.tosyo-saga.jp/kentosyo2/opac/switch-detail.do?bibid=1101798221

• • 予約かごへ
• • 本棚へ

所蔵

所蔵は 1 件です。現在の予約件数は 0 件です。

所蔵館	所蔵場所	請求記号	資料コード	資料区分	帯出区分	状態
県立（本館）	新庫２層	/434/TO23/	115466799	一般図書	利用可	在架

ページの先頭へ

資料詳細

タイトル	有機合成のためのフリーラジカル反応
副書名	基礎から精密有機合成への応用まで
著者	東郷 秀雄 ／著
出版者	丸善出版
出版年	2015.1
ページ数	9,314p
大きさ	21cm
一般件名	有機化学 , 化学反応 , 基(化学)
NDC分類	437.01 ／ 437.01
内容紹介	近年、温和で官能基選択性の高い反応が開発され、有機フリーラジカル特有の反応がさまざまな基質に広く利用されてきている。有機フリーラジカル反応の基礎と合成化学的利用法、そして最新の研究成果を系統的にまとめる。
ISBN	978-4-621-08902-6

ページの先頭へ

所蔵場所が「大和書庫」（所蔵場所の名称が、「大和講堂」、「大和研修」、
「大和新１」、「大和新２」、「大和新３」）の本については、遠方に保管
しているため、お取り寄せに１０日程度かかる場合がありますので、
ご了承ください。（貸出中の場合は、返却後となります。）
なお、「大和書庫」の本は、あらかじめ予約をお願いいたします。

状態が「市町巡回貸出」の本については、市町図書館支援のため優先貸出中です。
当館での提供開始までに最長3か月程度かかりますので、ご了承ください。