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ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用 貸出可

表面技術協会／編 -- コロナ社 -- 2016.12 -- 566.7 ／566.7

https://www2.tosyo-saga.jp/kentosyo2/opac/switch-detail.do?bibid=1101982652

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所蔵

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所蔵館	所蔵場所	請求記号	資料コード	資料区分	帯出区分	状態
県立（本館）	新庫２層	/566.7/D87/	115699233	一般図書	利用可	在架

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資料詳細

タイトル	ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用
著者	表面技術協会 ／編
出版者	コロナ社
出版年	2016.12
ページ数	10,305p
大きさ	21cm
一般件名	金属表面処理 , 薄膜
NDC分類	566.7 ／ 566.7
内容紹介	「ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎」の応用編。真空技術からプロセスモニター、炭素系薄膜まで、研究現場や製造現場で基礎技術をベースに的確にドライプロセスが実施できるよう、工夫して解説する。
ISBN	978-4-339-04650-2

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