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ドライプロセス表面処理大全 貸出可

関東学院大学材料・表面工学研究所／編 -- 日刊工業新聞社 -- 2019.3 -- 566.7 ／566.7


https://www2.tosyo-saga.jp/kentosyo2/opac/switch-detail.do?bibid=1102188845

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
県立（本館） 新庫２層 /566.7/D87/ 116085838 一般図書 利用可 在架 iLisvirtual

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タイトル ドライプロセス表面処理大全
叢書名 技術大全シリーズ
著者 関東学院大学材料・表面工学研究所 ／編  
出版者 日刊工業新聞社
出版年 2019.3
ページ数 285p
大きさ 21cm
一般件名 金属表面処理 , 薄膜
NDC分類 566.7 ／ 566.7
内容紹介 真空や大気圧下で金属、無機化合物、有機化合物などの薄膜を形成する表面処理方法であるドライプロセス。真空技術や基板前処理などの基礎、PVD、CVD、エッチングなどの原理を解説し、応用例や最新技術等を紹介する。
ISBN 978-4-526-07968-9

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